镀铝膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态，之后塑料薄膜经过真空蒸发室时，气态的铝分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金属色彩的薄膜。
应用领域：圣诞、包装、印刷行业，其亮度好，颜色鲜艳，所加工上色的镀铝膜，色差小，颜色均匀，不掉色。来料来样加工；
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镀铝彩膜工艺流程
一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。由于其外观漂亮，还可以在一定程度上替代铝箔，降低包装的成本，常用于普通的小食品包装，如膨化食品、饼干、榨菜等。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP和CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，然后再把
纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量，开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。
真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。许多大型机械设备在运输过程中由于体积庞大无法装箱，只能散放，暴露在大气环境的雾、高湿热和海水的盐碱侵蚀中，因此导致金属制品发生锈蚀，每年因此产生的损失不可估量。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。如果纸张的表面较粗糙，要采用直接蒸镀法，在镀铝前需先进行表面涂布。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。怎么测量镀铝膜的厚度、牢度、均匀度1、通常采用下述三种方法来测量镀铝膜的厚度：A。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。
测试镀铝膜的铝层附着力用什么胶带
真空镀铝是在高真空度下使铝加热蒸发汽化成为铝原子蒸汽，在冷却鼓上的塑料薄膜上堆积而成为镀铝层。
这种铝原子的堆积，其附着力是很低的，无论CPP或OPP都是非极性材料，与具有金属键的铝原子无亲和性。
因此，必须在CPP或OPP上涂覆底涂胶后，真空镀铝的铝层才有良好的附着力。
各种橡胶或其他极性树脂涂层均是真空镀铝的底涂胶。
现在已经有好几家CPP生产厂家引进国外的设备和技术生产金属化CPP薄膜，这是用共挤流延复合方法生产的，实际上是已在CPP膜上共挤涂上了底涂层的缘故。
如果在CPP蒸镀面上进行印刷（使用表印油墨），然后再在油墨层上真空蒸镀铝，这时的油墨层就起着蒸镀用底胶的作用，蒸镀铝层会很牢靠。
以上信息由专业从事真空彩色镀铝膜生产的华福包装于2024/6/28 8:02:19发布
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